Корзина
Пишите нам: mail@theseuslab.kz
+375 (29) 640-41-26
  • Theseus Lab
  • Новости
  • Возможности Theseus Lab: поставки оборудования с передовыми технологиями

Возможности Theseus Lab: поставки оборудования с передовыми технологиями

Наша компания завершила проект по поставке системы с уникальной технологией бездефектной финишной очистки и очистки мега звуком

05.11.18

Передовые разработки в области финишной очистки и очистки мегазвуком открывают новые возможности и горизонты для получения высочайшего уровня бездефектной очистки полупроводниковых пластин и различного рода масок, необходимых в таких областях, как микроэлектромеханические системы, полупроводниковая промышленность и другие.

На основании тендерных торгов компания Theseus Lab была определена поставщиком системы очистки подложек больших размеров для одного из крупнейших белорусских высокотехнологичных предприятий. Наше предложение основывалось на последней разработке для оборудования данного направления - бездефектную очистку мегазвуком чувствительных к повреждениям подложек как с технологической обработкой (с технологическим рисунком), так и без нее. Эта технология обеспечивает равномерное распределение акустической энергии по всей поверхности подложки, что позволяет идеально ее очищать, максимизируя распределенную энергию, находясь ниже порога повреждения очищаемого образца.

Установка предназначена для финишной очистки фотомасок / фотошаблонов, фазосдвигающих и бинарных фотошаблонов, а также визирных сеток оптических приборов с внешним диаметром до 21 дюйма.  Система решает задачи по бездефектной чистке фотошаблонов, экспонируемых излучением с длиной волны 248 нм и 193 нм. Производится мягкое удаление дефектов свыше 0,3 мкм и минимальной концентрацией остаточных ионов (SO4-2) для обеспечения нужд полупроводниковой промышленности в производстве фотошаблонов с топологической нормой 90 нм.

 

 

Возможности и ключевые особенности установки:

  • снятие фоторезиста и предварительная очистка; 
  • удаление адгезива пелликла; 
  • очистка обратной стороны фотошаблонов с пелликлами; 
  • отмывка спреем; 
  • очистка мегазвуком 1 и 3 МГц; 
  • работа с различными типами химреактивов, включая кислоты, гидрат аммиака, пероксид водорода; 
  • СO2-ионизация воды и химреактивов; 
  • подогрев деионизованной воды и химреактивов; 
  • возможность работы в чистой комнате 4x4 м класса 4 ИСО по ГОСТ ИСО 14644-1-2003; 
  • наличие вытяжного шкафа с HEPA/ULPA фильтрами; 
  • наличие емкостей для химреактивов и химстоков.
  • ручная загрузка фотошаблонов.

 

 

Это автономное устройство с расширенными возможностями управления на базе программного обеспечения LabVIEW. Система оснащена функцией разграничения уровней доступа с правами для оператора, инженеров-технологов и обслуживания.

Комбинация имеющихся характеристик делает установку идеальной для очистки фотошаблонов, используемых в проекционной литографии для 90 нм технологического процесса. Доступен выбор опций, которые позволяют расширить технические возможности оборудования.

И наша компания, и заказчик полностью удовлетворены результатами сделки, и выражаем уверенность, что будущие совместные проекты будут не менее интересными. Theseus Lab готова предложить уникальные решения на основе новейших разработок, соответствующие мировым стандартам. Мы поставляем оборудование, удовлетворяющее Вашим требованиям и пожеланиям.

Предыдущие новости
Контакты
  • Телефон:
    +375 (29) 640-41-26
  • Адрес:
    Pobřežní 249/46, Karlín, 186 00 Praha 8, Прага, Казахстан, Чехия